Copper Tungsten Tantalum Kupfer Wolfram Tantal

Die Stimme von veonis – more than supply informiert Sie....The voice of veonis - more than supply informs you....
!
VISIT US,
1
B
ll
a
H
22
Booth 2
Edition 6/2003
Zerstörungsfreie
Messung von
Metallschichtdicken
Non-destructive
Metal Film
Thickness Metrology
MORE THAN SUPPLY
Kupfer
Copper
veonis Technologies und Philips Advanced Metrology
veonis Technologies and Philips Advanced Metrology
Systems Inc. (der ehemalige Geschäftsbereich für
Systems Inc. (formerly the metal film metrology
Metallschichtdickenmessung von Philips Analytical)
division of Philips Analytical) have entered into a
haben ihre Kräfte im Dienste der europäischen
partnership to serve the semiconductor industry in
Halbleiterindustrie vereinigt. veonis Technologies ist
Europe. veonis Technologies is the exclusive
der exklusive Distributor in Europa für die gesamte
European distributor of the AMS series of leading
Produktpalette. Die Hochleistungs-Metrologiesysteme
edge metrology products for the current 130 nm
der AMS Baureihe eignen sich für die aktuelle
copper process node with demonstrated capability to
130 nm Kupfertechnologie und haben ihre Fähigkeit,
meet the needs of the ITRS roadmap at the 90, 60
die zukünftigen Anforderungen der ITRS Roadmap bei
and 35 nm nodes.
Designgrößen von 90, 60 und 35 nm zu erfüllen,
continued page 3
Wolfram
Tantal
Tungsten
Tantalum
bereits unter Beweis gestellt.
Fortsetzung Seite 3
•••••••Spotlight ••••••• •
•••••••• Spotlight•••••••
Kommunikationsplattform
Auf der SEMICON Europa in München finden Sie
uns und unsere Partner dieses Jahr vom
01. – 03. April in der Halle B1 Stand 222.
Bewährtes, innovatives, sowie neue Messmethoden und -systeme werden vorgestellt.
Gerade im zunehmend härter werdenden Wettbewerb in der Halbleiterbranche ist es wichtig, die
eigene Geschäftsstrategie ständig im Auge zu
behalten. Wir haben uns daher entschlossen,
unsere Produktpalette weiter zu stärken und
auszubauen.
Philips Advanced Metrology Systems
n&k Technology
partners in Hall B1 Booth 222. Proven systems
and innovations, like new measuring systems
and methods will be introduced.
Wir laden Sie dazu herzlich ein: Besuchen Sie uns
auf dem Messegelände in München. Es lohnt
sich. Schon jetzt wünschen wir Ihnen einen
erfolgreichen Messebesuch auf der SEMICON/
Europa mit wertvollen Informationen für Ihre
zukünftige Arbeit.
Communication platform
During SEMICON Europa in Munich from
01. – 03. April 2003 you will find us and our
In order to meet the demands of an increasingly
competitive semiconductor industry it is most
important at all times to keep track of your own
business strategy. Thus we decided to enforce
and expand our product range.
Philips Advanced Metrology Systems
n&k Technology
Your are cordially invited to our booth: Come and
see us at the show in Munich. It will be worth it.
We wish you a prosperous and enjoyable time at
SEMICON/Europa and trust you will find valuable
information for your work.
Ihr / Yours
Manfred Schwarz
Dr. Reiner Lindner
Mehr Informationen dazu finden Sie auf unserer Webseite www.veonis.com ••• For more information visit us at www.veonis.com
PARTNERSHIP
Neue Produkte ••• New Products ••• Neue Produkte ••• New Products
EPIMET VON SEMITEST:
KOSTENEINSPARUNG
BEI DER EPI-MESSTECHNIK
SEMITEST’S EPIMET:
COST REDUCTION
IN EPI METROLOGY
Das Epimet Modell 2 für Wafer bis zu 200 mm
Durchmesser ist weltweit im Einsatz und
ermöglichte vielen Firmen eine Amortisierung
des eingesetzten Kapitals innerhalb kurzer Zeit.
Der bestehende Kundenkreis umfasst Waferhersteller, Spezialisten zum Abscheiden von Epischichten und Hersteller von komplexen Halbleiterschaltungen.
Im Gegensatz zu anderen Epiwiderstandsmessgeräten, die nur den Bereich dicht an der Waferoberfläche betrachten, besitzt das Messergebnis des Epimets einen wesentlich höheren Wert.
Die Information über das Widerstandsprofil über
die Epischicht gibt dem zuständigen Ingenieur
für die Epitaxie oder die Metrologie unverfälschte Informationen über den Prozess und
den Reaktorzustand. Selbst unter den
genauesten Tests hat sich herausgestellt, dass
die Messung auf dem Epimet gänzlich zerstörungsfrei ist. Auch bei der Anlegung strenger
Kriterien werden die Eigenschaften der
gemessenen Wafer nicht verändert. Daher
können gemessene Wafer an den Endkunden
versandt werden und tragen hiermit zu Ihrem
Ertrag bei.
The epitaxial process is known as one of the
costly process steps during the manufacturing
of wafers. Some part of the cost is related to
frequent reactor set-ups and running
destructive tests on test wafers. Measuring
the resistivity profile of the epitaxial layer by
e.g. Hg-probe is such a destructive test
creating avoidable costs. SemiTest’s
patented non-contact profiling technique is
the direct replacement for Hg-probe.
If you are currently using a Hg-probe or CV
system, Epimet resistivity profiles are
already familiar to you and your end
customers. This makes the system quick
and easy to qualify for production. Plus,
you can apply your established knowledgebase for rapid identification and resolution
of reactor problems.
Das Epimet 300 wurde Mitte 2002 vorgestellt
und ist die konsequente Erweiterung der
Epimet-Produktpalette. Das Gerät ist speziell
auf die Anforderungen an 300-mm-Wafer ausgelegt. Es kann mit Ladestationen für offene
Kassetten (wie abgebildet) oder für FOUP ausgelegt werden.
Die Kerneigenschaften aller Epimet-Geräte sind:
hervorragende Korrelation zur
Hg-Messung und zu CV-Schottky
berührungslos, zerstörungsfrei
Messung auf Produktwafern
Messung des Widerstandprofils
The key features of all Epimet products are:
The Epimet Model 2 for wafers up to 200
mm is worldwide in use and has allowed
many companies to generate pay-backs for
the invested money in a short period of time.
The existing customer base includes leading
wafer makers as well as epi foundries and
manufactures of complex integrated semiconductor devices.
Unlike some other epi resistivity tools, which
measure only close to the surface of the wafer,
the information provided by the Epimet has
much more value. The information about the
whole resistivity profile of the epi layer gives the
epi and the metrology engineer what is needed:
an unfiltered information about the process and
the status of the reactors. Since it is proven in
many thorough tests, the measurement on the
Epimet is definitely non-destructive. This even
under the most stringent requirements with
respect to changing the characteristics of the
tested wafers. Thus tested wafers can be
shipped to customers and contribute directly to
the bottom line result.
excellent correlation to Hg-probe
and CV-Schottky
non-contact, non-destructive
measurement on product wafers
resistivity profiles provided
Mehr Informationen dazu finden Sie auf unserer Webseite www.veonis.com
New Products
Neue Produkte
Der Epitaxieprozess ist bekannt als einer der
kostenintensivsten Schritte bei der Herstellung
von Wafern. Einige dieser Kosten stehen im
Zusammenhang mit dem häufigen Einstellen der Reaktoren und den destruktiven Messungen auf den Testwafern. Die
Messung des Widerstandsprofiles der
Epischicht mit Hg-Messung ist ein Beispiel
für einen zerstörenden Test, der Kosten
generiert, die vermeidbar sind. Die patentierte berührungslose Profil-Messtechnik
von SemiTest ist ein direkter Ersatz für
diese Hg-Messung.
Falls Sie bereits Hg-Messungen oder CVSchottky einsetzen, dann werden Ihnen
und Ihren Kunden die Widerstandsprofile
vom Epimet bereits vertraut erscheinen.
Somit ist eine einfache und schnelle Qualifikation für die Produktion möglich. Weiterhin können Sie Ihren Bestand an Daten
nutzen, um zügig Probleme mit dem
Epireaktor zu erkennen und zu lösen.
The Epimet 300 introduced in mid 2002 is the
logical extension of the Epimet product line. The tool
is designed exclusively for the testing of 300 mm
wafers. It can be configured with open cassette
interface (pictured) or with FOUP interface.
••• For more information visit us at www.veonis.com
PARTNERSHIP
Fortsetzung von Seite 1
Danke
für Ihre Meinung
Zerstörungsfreie Messung
von Metallschichtdicken
Kupfer
Die vollautomatischen Geräte kön-
Wir bedanken uns nochmals für die rege
nen Wafergrößen bis 300 mm hand-
Beteiligung an unserer Kundenumfrage.
haben und eignen sich für die
Unter den zahlreichen Einsendungen wurden
laufende Prozesskontrolle von Deck-
Mitarbeiter der Firmen
schichten und Chipstrukturen aus
Kupfer, Wolfram und Tantal, die in
AMD, ASML, Atmel, Elmos, Forschungszentrum
hochentwickelten
Jülich, Infineon Technologies, Philips Semi-
Schaltkreisen Verwendung finden.
conductors, Robert Bosch, ST Microelectronics,
Die AMS Produktlinie basiert auf der
Wacker Siltronic
patentierten SurfaceWave™ Tech-
elektronischen
nologie, die eine schnelle, zerals Gewinner ausgelost.
störungsfreie, optische Messung der
Dicke und Gleichförmigkeit lichtun-
Ihre Unterstützung und Loyalität wissen wir in
durchlässiger Metallschichten er-
hohem Maße zu schätzen und sind daher
laubt und eine Wiederholbarkeit der
ständig bestrebt, Ihren Anspruch an uns zu
Messung
erfüllen und noch attraktiver zu werden.
Angström liefert. Die Messgeräte
von
besser
als
ein
werden vorwiegend für die Kontrolle
Wir bleiben dran!
von CMP-, CVD-, PVD- and ECD-
Wolfram
continued from page 1
Prozessen eingesetzt.
Non-destructive Metal Film
Thickness Metrology
Hauptanwendungen sind Messung von Testfeldern und von hochintegrierten Bereichen auf
Thank you
We would like to thank you for your active
participation in our survey. Given the numerous
response it was decided to draw lots for our
champagne prizes. The winners are employees of
AMD, ASML, Atmel, Elmos, Forschungszentrum
Vorher-/Nachher-Charakterisierung
tungsten, and tantalum blanket thin-films and
Nachweis fehlender Schichten
patterns including the sub-micron arrays used in
vollständige Kartierung von Wafern
sophisticated electronic devices. The AMS
sowie Abtastung über den gesamten
product series is based on patented Surface-
Durchmesser
Wave™ technology, a fast, non-destructive
Messung von Randprofilen und
optical technique, which delivers sub-Angstrom-
Bestimmung der Gleichförmigkeit
level repeatability of thickness and uniformity of
von Startschichten
opaque metal films. The equipment is typically
Tantal
used for CMP, CVD, PVD and ECD process
HERAUSGEBER/EDITOR
conductors, Robert Bosch, ST Microelectronics,
Ansprechpartner/Contact:
Traudi Mollner
Your assistance and loyalty has been greatly
appreciated. We will always strive to fulfil your
demands becoming a stronger partner for you
in the future.
control.
Tungsten
veonis Technologies GmbH
Key applications include on-product measure-
Junkersstrasse 1, D - 82178 Puchheim / Munich
Germany
Phone
+49 - (0)89 - 800 85-0
Fax
+49 - (0)89 - 800 52 68
ment of test pads and high-density arrays of
sub-micron features, and
veonis Technologies Ltd
pre- and post-CMP characterization
United Kingdom
Phone
+44 - (0)141 - 642 - 0806
Fax
+44 - (0)141 - 642 - 0652
missing-layer detection
edge-to-edge wafer mapping plus
veonis Technologies Eurl
We keep active!
300mm take in-line measurements of copper,
von CMP
Jülich, Infineon Technologies, Philips Semi-
Wacker Siltronic
Copper
The fully automated tools for wafer sizes up to
Produktwafern, sowie
France
Phone
Fax
measurement of diameter scans
+33 - (0) 476 63 49 14
+33 - (0) 476 54 03 99
edge profiles and seed-layer
www.veonis.com
Mehr Informationen dazu finden Sie auf unserer Webseite www.veonis.com
Tantalum
uniformity
••• For more information visit us at www.veonis.com
www.pur2.de
VEONIS TODAY AND TOMORROW
Getestet und für gut befunden,
im Dialog mit dem Kunden
Checked and approved –
online with the customer
Zwei Jahre nach der Umfirmierung stellte sich
die Frage, ob es uns gelungen, ist die Kundenzufriedenheit zu verbessern? Haben wir die Kunden von unseren Dienstleistungen überzeugen,
ja sie vielleicht sogar begeistern können? In
welchen Bereichen können wir uns weiter
verbessern?
Two years after our change of name, several
questions arose, “have we succeeded in
improving our customer care program, are our
customers positive about our service and
supply, or maybe even delighted, what areas
can be improved?”
Europaweit wurden im Dialog mit dem Kunden
die Zufriedenheit mit unseren Produkten und
Dienstleistungen als wichtiges Messkriterien
ermittelt. Im Fragebogenfeld für persönliche
Kommentare fand sich am häufigsten die Aufforderung „Weiter so!“ sowie die „gute Kundenorientierung“.
Online with our customer throughout Europe we
detected as a main response satisfaction on our
products and services. ”Keep it up!“ or “good
customer orientation” was quite often the
response from a broad base of customers.
Dass die Meinungen sehr unterschiedliche
Tendenzen aufzeigen, drücken folgende Diagramme aus:
No doubt a wide range of opinions were
showing various trends. See graphs.
As you can see, room for improvement was
tracked.
ERFOLGREICHER
ABSCHLUSS –
DAS SPRUNGBRETT INS
AUSLAND
Im Januar dieses Jahres beendete Mariann
Tòth vom kaufmännischen Ausbildungsjahrgang
1999 ihre Ausbildung mit gutem Ergebnis.
Die Geschäftsführerin Frau Gabriele Reichenberger würdigte im Rahmen der Freisprechungsfeier das Ergebnis und überreichte
am Rand der Feierlichkeit einen Gutschein für
ein Paar In-Line-Skates als kleines Abschiedsgeschenk.
Es sind zweieinhalb Jahre gewesen, die durch
erfolgreiche Arbeit, Abschnitte voller Freude,
gemeinschaftliche Erlebnisse, manchmal auch
nachdenkliche Situationen, aber immer durch
vollen Zusammenhalt geprägt waren, so Frau
Tòth im Rückblick auf die Lehrzeit. Jetzt sei sie
bereit, noch mehr zu lernen und im Ausland
Erfahrungen zu sammeln. Nach einem kurzen
Urlaub wird sie schon im März den Start in das
Berufsleben in einem amerikanischen Unternehmen in New York, USA beginnen.
Wir wünschen Mariann Tòth, dass die Umsetzung
ihrer Vorhaben gelingt und alles Gute sowie viel
Erfolg für die Zukunft.
Sie sehen, Verbesserungspotential wurde aufgespürt.
Die in der Umfrage reflektierte Kundenorientierung von veonis Technologies und die hohe
Kundenzufriedenheit wollen wir weiter ausbauen,
ganz nach dem Motto „MORE THAN SUPPLY“.
The survey reflects a good customer orientation
of veonis Technologies as well as high
customer satisfaction which we will expand
continuously in terms of „MORE THAN SUPPLY“.
www.veonis.com
Inside Europe veonis Technologies Eurl
According to Pascal Gautraud, General Manager, veonis
Technologies Eurl is in good stead due to the broad
portfolio and its diversification. Through constructive
dialog with his customers the company has achieved a
strong relationship and enhanced service quality. One
exemplar of this is the increasing total order quantity of
SensArray products as thermal measurement solutions
for semiconductors, LCD, and memory disk fabrication
processes.
Of course the current market situation is a continuous
challenge for improvement in all aspects of our business,
still the French legal entity started in February 2002 is
ending its first fiscal year with encouraging results.
Partner
Le portfolio important et diversifié de veonis nous
permet de nous porter relativement bien “, a précisé
Pascal Gautraud, directeur général de veonis
Technologies en France. Au travers d’un dialogue continue
avec ses clients, veonis Technologies Eurl a développé
ses prestations de services ainsi q’un relationnel de
qualité. Par exemple, le développement des commandes
de produits SensArray, systèmes de mesure de température sur substrats, solutions pour les industries du semiconducteur, LCD etc.…
Bien sur, les conditions actuelles du marché sont un
chalenge permanent pour l’amélioration de l’ensemble
de notre activité, pour autant, notre entité légale
française créée en février 2002 termine sa première
année fiscale avec des résultats encourageants.
SUCCESSFUL APPRENTICESHIP
EXAMINATION – A STEPPING STONE
TO ABROAD
In January 2003 Mariann Tòth finished her
clerk training and graduated with good results.
In the course of celebration Gabriele Reichenberger, Managing Director, presented the
certificate and handed over a voucher for a pair
of Roller Skates as a farewell gift.
It has been two and a half years of successful
work, cycles packed with joy, shared
experiences, sometimes even contemplative
situations but always minted by closed
connections, said Tòth reviewing her trainee
program. Now she stands ready to learn even
more and gain from international know-how
abroad. In March, after a short break she will
enter into business and join an American
company located in New York, USA.
We wish Mariann Tòth all the luck that’s
needed, to make her projects successful. Good
speed and a prosperous future!
veonis Technologies
Philips AMS • CDE • CETAC • Chapman • Fortrend • Legacy • Litel • Modular Process Technology
n&k Technology • Okamoto • SemiTest • SensArray • Teikoku Taping System • Veeco
Partnerships