Spezialgraphite für die Halbleiter

Transcrição

Spezialgraphite für die Halbleiter
Graphite Materials and Systems
Spezialgraphite
für die
Halbleiterindustrie
2
Spezialgraphit- und Prozesslösungen – made by SGL Group.
̤̤ Fortschrittliche Material-, Equipmentund Prozesslösungen
̤̤ Entwickelt für Kunden aus
mehr als 35 Industrien
̤̤ Maßgeschneidert aus dem
umfangreichsten Produktportfolio
̤̤ Tiefgreifendes Produktions- und
Material-Know-how
̤̤ Konstant hohe Qualität, Performance
und Service
̤̤ Attraktive Gesamtbetriebskosten
Broad Base. Best Solutions.
Business Unit Graphite Materials and Systems
3
Fortschrittliche Lösungen
verschaffen unseren
Kunden einen Vorsprung.
Die SGL Group bietet fortschrittliche Lösungen – selbst für herausfordernde Anwendungen. Wir verstehen die spezifischen Anforderungen
unserer Kunden und kombinieren tiefgreifendes Produktions-, Materialund Engineering-Know-how mit dem umfangreichsten SpezialgraphitPortfolio. Das macht uns zum Partner der Wahl führender Unternehmen.
Extreme Korrosions- und Hitzebeständigkeit sowie
entwickeln wir in enger Partnerschaft mit
hohe Reinheit und mechanische Festigkeit sind nur
unseren Kunden maßgeschneiderte Lösungen.
einige der herausragenden Eigenschaften unserer
Werkstoffe. Spezialgraphitprodukte der SGL Group
Die SGL Group vereint die gesamte Wertschöpfungs-
führen auch dort zu optimalen Ergebnissen, wo
kette der Spezialgraphitherstellung. Von der Roh-
andere Materialien längst an ihre Grenzen stoßen.
stoffaufbereitung über die Halbzeugproduktion
sowie die Präzisionsbearbeitung bis hin zur Reini-
Abgestimmt auf Ihre spezifischen Anforderungen
gung und Beschichtung. Auch bei Equipment- und
identifizieren wir für Sie die jeweils beste Lösung
Prozesslösungen macht unser Leistungsangebot
aus dem umfangsreichsten Spezialgraphit-Sortiment.
den Unterschied aus: Wir bieten Konstruktion,
Auslegung, Produktion, Montage, Inbetriebnahme
̤̤ Feinkorngraphite: isostatisch, vibrationsverdichtet, gesenkgepresst, extrudiert
und Service aus einer Hand.
So kontrollieren und sichern wir die konstant hohe
̤̤ Expandierter Naturgraphit
Qualität und Performance unserer Produkte –
̤̤ Carbonfaserverstärkter Kohlenstoff (CFC)
und verschaffen damit unseren Kunden einen
̤̤ Graphitweichfilze und -hartfilze
entscheidenden Vorsprung. Fordern Sie uns heraus.
̤̤ Siliziumcarbidbeschichtete Graphitmaterialien
Wir sind weltweit für Sie da.
Zusätzlich verwenden wir auch Materialien wie
PTFE, Siliziumcarbid und Spezialmetalle.
Spezialgraphitlösungen für die Halbleiterindustrie
Mit diesem Portfolio und dem anwendungs-
Innovative Spezialgraphit-Lösungen spielen für
technischen Wissen aus über 35 Industrien
die anspruchsvollen Prozesse der Halbleiterherstellung eine entscheidende Rolle. Mit optimierten
Anlagenkomponenten und Hochleistungswerk-
b Bearbeitung eines Wafer-Trägers
stoffen sind wir ein gefragter Partner führender
Erstausrüster (OEM) und Halbleiterproduzenten.
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Spezialgraphite – made by SGL Group.
Lösungen für die Halbleiter- und LED-Industrie.
Basismaterial
Saphir (Al2O3)
Al2O3
Einkristallzüchtung
Substrat Wafer
Siliziumkarbid (SiC)
SiC
Sublimationszüchtung
Substrat Wafer
Halbleiter Wafer
Si
Monokristall­
ziehen
(CZ-Verfahren)
Silizium (Si)
Konverter
Substrat Wafer
Halbleiter Wafer
Siemens-Reaktor
Wertschöpfungskette
Polysilizium
Kristallzüchtung
Einkristalle
Produkte der
SGL Group
Heizer
Hitzeschilde
Isolation
Elektroden (Polychucks)
Heizer
Tiegel
Hitzeschilde
Isolation
Sägeunterlagen
Materialien aus
Kohlenstoff und Graphit
SIGRAFINE®
extrudierte, isostatische und
vibrations­­­verdichtete Graphite
SIGRABOND®
carbonfaser­verstärkter
Kohlenstoff (CFC)
SIGRATHERM®
Kohlenstoff- und Graphitfilze
SIGRAFINE® SiC Coating
SIGRAFINE®
extrudierte, isostatische
Graphite
SIGRABOND®
carbonfaser­verstärkter
Kohlenstoff (CFC)
SIGRATHERM®
Kohlenstoff- und Graphitfilze
SIGRAFINE® SiC Coating
SIGRAFINE®
isostatische Graphite
Wafersägen
spezialgraphitlösungen für die Halbleiterindustrie
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Für viele Prozesse in der Halbleiterproduktion sind Kompo­
Unser Portfolio umfasst Heizer, Stütztiegel, Hitzeschilde und
nenten aus Spezialgraphiten unverzichtbar: ob für die Kristall­­
Isolationsbauteile für viele Verfahren zur Züchtung von
züchtung oder die anschließende Veredelung mittels Epitaxie,
Einkristallen, wie z. B. dem Czochralski-Prozess (CZ), der
Ionen-Implantation oder Plasmaätzen, wie auch für die Her-
Sublimations- auch Physical Vapor Transport-Methode (PVT)
stellung von LED-Chips. Denn die Prozesse laufen meist bei
oder auch der Heat Exchange-Methode (HEM). Hinzu kom-
sehr hohen Temperaturen und in extrem korrosivem Milieu
men Suszeptoren für die Silizium-Epitaxie, wie auch für
ab; gleichzeitig sind höchste Reinheit und absolute Präzision
MOCVD-Reaktoren (Metal Organic Chemical Vapor Depositi-
gefordert.
on). Unsere Komponenten werden vorwiegend nach individuellen Anforderungen gefertigt. Außerdem unterstützen
Für die anspruchsvollen Prozesse der Halbleiterproduktion
wir unsere Kunden bei Planung und Entwurf sowie bei der
bieten wir zuverlässige Lösungen aus Spezialgraphit.
Optimierung im Betrieb.
+ SIGRAFINE® ist der neue Markenname
für unsere Feinkorngraphite, bisher bekannt
unter RINGSDORFF®, SIGRAFORM®,
SIGRAMENT® und CRYSTA-SIL®.
MOCVD
Silizium
Epitaxie
Epitaxie
Weitere Schritte der Waferbearbeitung
Suszeptoren
Teile zur Ionen-Implantation
SIGRAFINE®
isostatische Graphite
SIGRAFINE® SiC Coating
SIGRAFINE®
isostatische Graphite
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Produkte für die
Halbleiterindustrie
Als zuverlässiger Lieferant und Partner
unserer Kunden bieten wir für jede Anwendung perfekte Lösungen und maximale
Prozesssicherheit. Was uns auszeichnet:
̤̤ Breiteste Auswahl hochreiner
Spezialgraphite
̤̤ Konstant hohe Material- und
Produktqualität
̤̤ Langjähriges Anwendungs- und
Werkstoff-Know-how
̤̤ Individuelle Fertigung exakt nach
Kundenwunsch
̤̤ Anwendungsspezifische Veredelung
durch Reinigung, mechanische
Bearbeitung oder Beschichtung
spezialgraphite für die halbleiterindustrie
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Spezialgraphite für die
Polysiliziumproduktion
c Elektroden (Polychucks) für Siemens-Reaktoren
b Mäanderheizer für CZ-Anlagen
c Graphithartfilz-Zylinder zur Isolation von Konvertern
In Siemens-Reaktoren und sogenannten STC-TCS-Konvertern,
Konverter sowie Hitzeschilde und thermische Isolationsteile.
zur Wiederaufbereitung der Prozessgase herrschen Tempera­
Abhängig von Anforderungen und Betriebsbedingungen
turen bis über 1000 °C und ein hochkorrosives Milieu. Hier
wählen unsere Experten die besten Materialien und fertigen
überzeugen unsere Graphitbauteile vor allem, weil sie extrem
daraus maßgeschneiderte Produkte. Durch unsere neu ent-
temperatur- und korrosionsbeständig sind.
wickelten Formgebungs- und Verbindungs­lösungen können
wir zum Beispiel Konverter-Isolationen in fast jeder Länge
Seit Jahrzehnten unterstützen wir Polysiliziumhersteller
und nahezu jedem Durchmesser liefern. Um die Lebensdauer
mit vielfältigen Anlagenkomponenten.
besonders beanspruchter Bauteile zu erhöhen – etwa bei
Dazu zählen gereinigte Elektroden für die Polysilizium­
Konvertern –, bieten wir Spezialbeschichtungen aus Silizium-
abscheidung, Heizer und Gasführungen für STC-TCS-­
carbid (SiC).
Anwendungsspezifische Spezialgraphite für die Polysiliziumproduktion
Graphit
Anwendungen
Wirbelschichtreaktor (FBR)
Siemens CVD-Prozess
Konverter (STC-TCS)
Produkte
isostatisch
Reaktor
○
Polychuck
○
Gasverteiler
○
Heizelemente
○
Hitzeschilde
○
Isolationszylinder
extrudiert
vibrationsverdichtet
Weichfilz
Hartfilz
CFC
SiCbeschichtet
○
○
○
○
○
○
○
○
○
○
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Spezialgraphite für die Züchtung von
Halbleiter- und Saphir-Einkristallen
c Stütztiegel aus CFC
c Hartfilz-Zylinder zur Isolation
c Graphitkomponenten für CZ-Anlagen
Ganz gleich, welches Verfahren zur Züchtung von Einkristallen
Dazu zählen Heizer, Tiegel, Reflektoren und Hitzeschilde aus
betrachtet wird, ob HEM für Saphir, CZ für Silizium oder PVT
hochfestem, homogenem Feinkorngraphit oder carbonfaser-
für SiC: Fast immer laufen die Kristallisationsprozesse bei sehr
verstärktem Kohlenstoff sowie Isolationsbauteile aus Graphit-
hohen Temperaturen und in aggressivem Milieu ab. Deshalb
filzen. Je nach Anlage wählen wir die jeweils besten Materialien
besteht der Hochtemperaturbereich im Ofen („Heiße Zone“)
in höchster Reinheit (Aschewert < 5 ppm). Um die Lebensdauer
fast vollständig aus temperatur- und korrosionsbeständigen
besonders beanspruchter Bauteile zu erhöhen, bieten wir SiC-
Graphitbauteilen.
Spezialbeschichtungen. Hierfür besonders gut geeignet sind
unsere isostatischen Graphite R6510 und R6810.
Für Kristallzuchtanlagen aller Art liefert die SGL Group
sämtliche Graphitkomponenten einzeln oder als Set.
Anwendungsspezifische Spezialgraphite für Kristallzuchtanlagen
Graphite
Anwendung
Einkristallziehen
Produkte
isostatisch
Tiegel
○
Heizer
○
Hitzeschilde
○
Reflektoren
○
extrudiert
Hartfilz
CFC
SiCbeschichtet
○
○
Heizer
○
○
Hitzeschilde
○
○
Isolation
Weichfilz
○
Isolation
SaphirEinkristallzüchtung
vibrationsverdichtet
○
○
○
○
○
spezialgraphite für die halbleiterindustrie
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Spezialgraphite für die
Silizium-Epitaxie
Bis zum fertigen Halbleiterprodukt durchläuft ein Wafer unzählige Schritte. Ein zunehmend wichtiger Prozess ist die Silizium-Epitaxie, in welcher die Wafer von Graphit-Suszeptoren
getragen werden. Eigenschaften und Qualität der Suszeptoren
wirken sich wesentlich auf die Qualität des Endprodukts aus.
Unsere SiC-beschichteten Graphit-Suszeptoren überzeugen
vor allem durch höchste Reinheit sowie eine homogene
­Beschichtung und eine ausgezeichnete Lebensdauer.
Darüber hinaus bieten sie eine hohe chemische und thermische Beständigkeit. Die SiC-Beschichtung erfolgt homogen
und innerhalb engster Toleranzen. Für ein gleichmäßiges
Suszeptor-Profil sorgt die hochpräzise mechanische Bearbeitung. Auch für induktiv beheizte Systeme bieten wir Material
mit einem optimalen elektrischen Widerstand an. Die fertigen
Bauteile liefern wir inklusive Reinheits- und Dimensions­
zertifikat.
Die SGL Group bietet Suszeptoren und Graphitbauteile für
die gängigen Typen von Epitaxie-Reaktoren.
c Suszeptoren für Epitaxie-Reaktoren
Unser Portfolio umfasst Barrel-Suszeptoren für Applied
­Materials, Moore und LPE-Anlagen, Pancake-Suszeptoren
für LPE-, CSD- und Gemini-Anlagen sowie Single-Wafer-­
kontrollen bieten wir unseren Kunden lückenlos rückverfolg-
Suszeptoren für Applied Materials und ASM-Anlagen. Alle
bare Produkte bester Qualität. Parallel entwickeln wir unsere
unsere Suszeptoren werden aus hochfestem isostatischem
Werkstoffe und Produkte weiter, in enger Zusammenarbeit
Graphit hergestellt. Darüber hinaus fertigen wir Bauteile für
mit Herstellern und Betreibern von Epitaxie-Anlagen.
die Ionen-Implantation aus besonders geeignetem hoch­
reinem, isostatischem Graphit. Dank umfassender Qualitäts-
Anwendungsspezifische Spezialgraphite für die Silizium-Epitaxie
Graphite
Anwendung
Silizium-Epitaxie
Produkte
isostatisch
extrudiert
vibrationsverdichtet
Weichfilz
Hartfilz
CFC
SiCbeschichtet
Barrel-Suszeptoren
○
○
Pancake-Suszeptoren
○
○
Single-Wafer-Suszeptoren
○
○
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Spezialgraphite für die LED-ChipHerstellung in MOCVD-Reaktoren
Während des Beschichtungsprozesses im MOCVD-Reaktor
werden Substrat-Wafer von Suszeptoren aus SiC-beschichtetem
isostatischem Graphit, auch Platter genannt, getragen.
Deren Eigenschaften beeinflussen die Beschichtungsqualität
der Wafer und somit die Chip-Ausschussrate maßgeblich.
Unsere SiC-beschichteten Suszeptoren unterstützen eine
effiziente Fertigung von hochwertigen LED-Wafern mit
geringer Wellenlängenabweichung.
Hierzu tragen viele wichtige Faktoren bei wie die sehr hohe
Reinheit und die gleichmäßige Wärmeleitfähigkeit sowohl
unseres isostatischen Graphits als auch der SiC-Beschichtung.
Für unsere Platter verwenden wir ausgesuchte Graphit­sorten.
Die hochpräzise mechanische Bearbeitung wie auch die
homogene Beschichtung sorgen für ein gleichmäßiges Profil
der Wafer-Trägertaschen und für eine hohe Planheit der Suszeptoren. Dank umfassender Qualitätskontrollen entstehen
c Wafer-Träger für LED-Chip-Herstellung im MOCVD-Reaktor
lückenlos rückverfolgbare Produkte von bester Qualität.
In enger Kooperation mit Herstellern und Betreibern von
MOCVD-Anlagen entwickeln wir unsere Werkstoffe und
Komponenten laufend weiter.
Gemeinsam wollen wir die Chip-Ausbeute bei der Produktion
von LED-Wafern erhöhen und die Wellenlängenabweichungen weiter minimieren. Wir liefern neben Suszeptoren auch
weitere Graphitbauteile für alle gängigen MOCVD-Reaktoren.
Und nahezu jedes Bauteil kann SiC-beschichtet werden, selbst
bei Durchmessern von mehr als 1 m.
a Vormontage eines Hochtemperaturofens bei der SGL Group
Anwendungsspezifische Spezialgraphite für MOCVD-Reaktoren
Graphite
Anwendung
MOCVD
(Metallorganische
Gasphasenepitaxie)
Produkte
isostatisch
extrudiert
vibrationsverdichtet
Weichfilz
Hartfilz
CFC
SiCbeschichtet
Suszeptoren/Platter
○
○
Deckel, Ringe,
Satelliten
○
○
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Full-Service-Partner
für Anlagenbauer von
Hochtemperaturöfen
Ein Anlagenbauer kaufte Komponenten
für seine „Heiße Zone“ früher einzeln ein,
montierte sie bei sich und lieferte dann von
dort aus. Dieser Prozess jenseits der Kernkompetenzen war komplex und verzögerte
die Lieferzeit.
Gemeinsam haben wir diesen Prozess
optimiert. Heute fertigen wir die benötigten
Produkte, montieren diese gleich bei uns
und liefern vielfach direkt an die Endkunden
in aller Welt. So spart unser Kunde Zeit
und Geld.
Nur ein Beispiel für anwendungsspezifisch
optimierte Lösungen der SGL Group.
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Feinkorngraphite für die
Halbleiterindustrie
Viele Anwendungen der Halbleiter­
produktion profitieren von unserer breiten
Palette an isostatischen, extrudierten
und vibrationsverdichteten Feinkorn­
graphiten und ihren herausragenden
Eigenschaften:
̤̤ Hohe mechanische Festigkeit
̤̤ Gleichbleibend hohe Qualität
̤̤ Hohe Reinheit
̤̤ Große Bandbreite an Abmessungen
̤̤ Hohe Korrosionsbeständigkeit
̤̤ Ausgezeichnete Temperatur­
beständigkeit
feinkorngraphit
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SIGRAFINE® Feinkorngraphite
Isostatisch, extrudiert, vibrationsverdichtet.
Unsere SIGRAFINE Materialien umspannen das gesamte
fertigen. Für extragroße Komponenten führen wir spezielle
Spektrum an Feinkorngraphiten: von isostatischen über
vibrationsverdichtete und isostatische Graphitsorten.
extrudierten bis hin zu vibrationsverdichteten Graphiten.
Alle Bauteile aus den genannten Materialien können bei
Bedarf in höchster Reinheit geliefert werden. Zur SiC-
Für die vielfältigen Anwendungen der Halbleiter­industrie
Beschichtung, die die Lebens­dauer der Bauteile verlängert,
liefern wir das jeweils optimale Material in marktüblichen
verwenden wir in der Regel isostatische Graphite.
Größen.
Für Heizer-Systeme eignen sich bestimmte Sorten unserer
isostatischen und extrudierten Graphite. Sehr lange, einteilige
Rohre lassen sich hervorragend aus extrudiertem Graphit
+ Mehr Information unter:
www.sglgroup.com/HerstellungsprozessFeinkorngraphite
Materialdaten unserer isostatischen SIGRAFINE® Feinkorngraphite
Typische Eigenschaften
Mittlere Korngröße
Dichte
Spezifischer elektrischer Widerstand
Biegefestigkeit
Druckfestigkeit
Einheiten
Isostatischer Graphit
R6300
R6340
R6500
R6510
µm
20
15
10
10
R6650
7
g/cm3
1,73
1,72
1,77
1,83
1,84
µΩm
16
12
14
13
14
MPa
40
45
50
60
65
150
MPa
85
90
110
130
10-6 K-1
2,7
3,2
4,2
4,2
4,1
≤ 200
≤ 200
≤ 200
≤ 200
≤ 200
Aschewert (gereinigt, P30) 1)
ppm
ppm
≤ 10
≤ 10
≤ 10
≤ 10
≤ 10
Aschewert (hochrein, P5) 2)
ppm
≤2
≤2
≤2
≤2
≤2
Wärmeausdehnung 20 – 200 °C
Aschewert
Materialdaten unserer extrudierten und vibrationsverdichteten SIGRAFINE® Feinkorngraphite
Typische Eigenschaften
Mittlere Korngröße
Dichte
Spezifischer elektrischer Widerstand
Biegefestigkeit
Druckfestigkeit
Einheiten
Extrudierter Graphit
Vibrationsverdichteter Graphit
HLM3)
SDR
MKUN
MKUS4)
0,8
0,2
0,8
0,8
g/cm3
1,72
1,75
1,67
1,79
µΩm
7,8/9,5
9,0
10/12
8/9
MPa
19/19
33
10/10
18/17
mm
MPa
40/39
–
25/25
41/39
10-6 K-1
3,0/3,5
2,2
2,3/3,2
2,7/3,3
ppm
ppm
≤ 800
≤ 500
≤ 700
≤ 700
Aschewert (gereinigt, P30) 1)
≤ 10
≤ 10
≤ 10
≤ 10
Aschewert (hochrein, P5) 2)
ppm
≤2
≤2
≤2
≤2
Wärmeausdehnung 20 – 200 °C
Aschewert
1) Spezifikationslimit der Aschewerte: < 30 ppm
2) Spezifikationslimit der Aschewerte: < 5 ppm
3) Ø 400 ... 780 mm; ¨ 500 x 500 ... 610 x 760 mm 4) Ø 760 ... 1360 mm; ¨ 630 x 1300 x 1420 mm
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SIGRATHERM® Graphitweichfilze
Für eine optimale thermische Isolation.
c SIGRATHERM Weichfilz
Unsere Graphitweichfilze bieten eine einzigartige Kombina­tion
aus thermischen, chemischen und textilen Eigenschaften.
Wärmeleitfähigkeit von SIGRATHERM GFA in Abhängigkeit
von der Temperatur (Vakuum-/Schutzgasatmosphäre)
Dadurch eignen sie sich ideal zur Isolation von Czochralski0,6
Aufgrund spezieller Herstellungsprozesse zeichnen sich
0,5
unsere SIGRATHERM Graphitweichfilze durch eine sehr
geringe Wärmeleitfähigkeit aus.
Außerdem besitzen sie eine einzigartige, über die gesamte
­Rollenlänge besonders homogene Dicken- und Dichteverteilung. So garantieren unsere Weichfilze eine gleichmäßige
und gleichbleibend hohe Isolationswirkung. Unsere
SIGRATHERM Graphitweichfilze bieten wir auch in höchster
Reinheit sowie in kundenspezifischen Sonderabmessungen.
Wärmeleitfähigkeit [Wm-1K-1]
Kristallzuchtanlagen.
0,4
Schutzgas
0,3
0,2
Vakuum
0,1
0
200
1000
2000
Temperatur [°C]
Materialdaten unserer SIGRATHERM® Graphitweichfilze
Typische Eigenschaften
Dicke
Flächengewicht
Einheiten
GFA5
mm
6
GFA10
11,5
g /m2
500
1000
Breite
mm
1220
1270
Länge
m
25 – 30
25 – 30
Aschewert
ppm
≤ 400
≤ 400
Aschewert (nachgereinigt)
ppm
≤ 20
≤ 20
Maximale Anwendungstemperatur
°C
2000 bei inerter Atmosphäre oder bei Vakuum
kohlenstoff- und graphitfilze
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SIGRATHERM® Graphithartfilze
Für eine mechanisch stabile thermische Isolation.
Wärmeleitfähigkeit von SIGRATHERM MFA in Abhängigkeit
von der Temperatur (Schutzgasatmosphäre)
Wärmeleitfähigkeit [Wm-1K-1]
1,0
0,8
0,6
0,4
0,2
0
c SIGRATHERM Hartfilz mit verschiedenen Beschichtungsoptionen
1000
0
2000
Temperatur [°C]
Platten und Zylinder aus SIGRATHERM Graphithartfilzen
zum Beispiel maßgefertigte Zylinder in nahezu jeder Größe
überzeugen vor allem durch gleichbleibend gute thermische
anbieten, wovon besonders Polysilizium-Hersteller profitieren.
Isolationseigenschaften. Darüber hinaus sind sie erosionsfest,
Speziell für die Halbleiteranwendungen bieten wir auch Hart-
lassen sich leicht verarbeiten und erlauben selbsttragende
filze in hochreiner Qualität.
Konstruktionen zur Isolation auch größerer Bauteile.
Als Konvektionssperre und Reflexionsschicht lassen sich eine
Neben SIGRATHERM Isolationsplatten als Halbzeug liefern
oder mehrere Lagen Graphitfolie aufbringen, die untrennbar
wir auch einsatzfertige Bauteile nach kundenspezifischen
mit dem Isolationsfilz verbunden sind. Für einen mechanischen
Anforderungen.
Oberflächenschutz bieten wir einen Isolationsverbund aus
Durch unsere innovativen Verbindungslösungen können wir
Filz und beidseitig aufgebrachtem CFC-Gewebe.
Materialdaten unserer SIGRATHERM® Graphithartfilze
Typische Eigenschaften
Einheiten
Platten
Zylinder
MFA
RFA
MFA
RFA
g/cm3
0,2
0,2
0,2
0,2
Druckfestigkeit
MPa
1
1
1
1
Biegefestigkeit
MPa
1
1
1
1
%
< 1,0
< 1,0
< 1,0
< 1,0
ppm
≤ 1000
≤ 1000
≤ 1000
≤ 1000
ppm
< 20
< 20
< 20
< 20
1524/1219
1524/1219
unbegrenzt
2000/2500
20 – 400
20 – 400
150
300
Dichte
Feuchtigkeitsaufnahme
Aschewert
Aschewert (nachgereinigt)
Länge/Breite
Durchmesser max /Länge max
Dicke
Wandstärke max
Maximale Anwendungstemperatur
mm
mm
°C
2000 bei inerter Atmosphäre oder bei Vakuum
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CARBONFASERVERSTÄRKTER KOHLENSTOFF
SIGRABOND® carbonfaserverstärkter
Kohlenstoff (CFC)
Für leichte, steife und langlebige Trägerkonstruktionen.
Mechanisch hoch belastbar, gering in Gewicht und thermischer
Ausdehnung, extrem korrosions- und temperaturbeständig
und auch noch hochrein: Das sind unsere SIGRABOND
Verbundwerkstoffe.
Neben Platten und Profilen fertigen wir aus SIGRABOND
auch rotationssymmetrische Bauteile wie Tiegel und Zylinder.
Unsere SIGRABOND Performance ist eine neu entwickelte
c SIGRABOND Performance
CFC-Platte mit verbesserter Steifigkeit für noch leichtere
Bauteile wie Wafer-Trägersysteme für PEVCD-Anlagen oder
Abdeckplatten für DSS-Anlagen. SIGRABOND FilWound-
Wärmeausdehnungskoeffizient
Produkte kommen vorwiegend als CFC-Stütztiegel in CZAnlagen zum Einsatz. Je nach Kundenanforderung werden
12
unsere CFC-Halbzeuge mechanisch bearbeitet oder auch
10
senkrecht
zur Faserrichtung
8
6
mittels SiC-Beschichtung weiterveredelt.
α = x × 10-6/K
4
2
parallel
zur Faserrichtung
0
-2
0
400
1200
2000
Temperatur [°C]
Materialdaten unserer SIGRABOND® carbonfaserverstärkten Kohlenstoffe
Typische Eigenschaften
Einheiten
Platten
Rotationssymmetrische Teile
Performance
Standard
FilWound
g/cm3
1,5
1,5
1,4
Biegefestigkeit
MPa
200
150
E-Modul
GPa
70
60
Dichte
abhängig vom
Lagenaufbau
Interlaminare Scherfestigkeit
MPa
8
8
Aschewert
ppm
≤ 1000
≤ 1000
≤ 1000
Aschewert (nachgereinigt)
ppm
≤ 10
≤ 10
≤ 10
Länge/Breite 1)
Durchmesser max /Länge max
mm
1220 x 1220/2450 x 1220
Sondermaße auf Anfrage
1220 x 1220/2450 x 1220
Sondermaße auf Anfrage
2000/2500
Dicke
Wandstärke max
mm
1,8 – 15
0,7 – 30
100
Maximale Anwendungstemperatur
1) Standardabmessung
°C
2000 bei inerter Atmosphäre oder bei Vakuum
sic-beschichtung
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SIGRAFINE® SiC Coating
Zur Verlängerung der Lebensdauer von Graphitkomponenten.
SIGRAFINE SiC Coating ist eine dichte, verschleißfeste
Mit dem Coating verlängern wir die Lebensdauer von
Sili­ziumcarbid-Beschichtung mit hoher Korrosions- und
Graphit­komponenten und erzielen hochreine Oberflächen-
Temperaturbeständigkeit sowie einer hervorragenden
strukturen, wie sie bei der Verarbeitung von Halbleiter­
Wärmeleitfähigkeit. Mittels chemischer Gasphasenabschei-
materialien gefordert sind. Die SGL Group liefert SiC-
dung (CVD-Verfahren) bringen wir SiC in dünnen Schichten
beschichtete Produkte aus hochfestem isostatischem Graphit
auf den Graphit auf.
und carbonfaserverstärktem Kohlenstoff. Dazu zählen
Die Beschichtung verbessert die Produktqualität, erhöht die
Komponenten für die Polysilizium-Herstellung oder auch
Prozesseffizienz und senkt somit die Gesamtbetriebskosten
Reflektoren für CZ-Anlagen sowie Suszeptoren für die
unserer Kunden.
Silizium-Epitaxie und für MOCVD-Reaktoren.
Reinheitsdaten SIGRAFINE® SiC Coating (Glow Discharge Mass Spektroskopie)
Element
ppm
Element
ppm
Natrium
< 0,05
Kupfer
< 0,01
Magnesium
< 0,01
Zink
< 0,05
Aluminium
< 0,04
Gallium
< 0,05
Phosphor
< 0,01
Germanium
< 0,05
Schwefel
< 0,04
Arsen
< 0,005
Kalium
< 0,05
Indium
< 0,01
< 0,01
Kalzium
< 0,05
Zinn
Titan
< 0,005
Antimon
< 0,01
Vanadium
< 0,001
Wolfram
< 0,01
Chrom
Mangan
< 0,05
Tellur
< 0,01
< 0,005
Blei
< 0,01
< 0,01
Wismut
< 0,01
Eisen
Nickel
< 0,005
c Mikroskopie der SiC Oberfläche
Materialdaten SIGRAFINE® SiC Coating
Typische Eigenschaften
Einheiten
Struktur
Orientierung
Dichte
Fraction [%]
g/cm3
Stöchiometrie
Wert
Analysetechnik
Beta (cubic) 3C Polytype
XRD
111 preferred
XRD
3,2
XRD
1:1 Si/C
XPS
GPa
40
Nanoindentation
MPa m1/2
3,0
Vickers identer
10-6 K-1
4,3
Dilatometer
GPa
435
Nanoindentation
Typische Schichtdicke
µm
100
Beta backscatter
Oberflächenrauheit
µm
2,5
Profilometer
Härte
Bruchzähigkeit
Wärmeausdehnung 100 – 600 °C
E-Modul
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Gemeinsam mit Ihnen finden
wir die beste Lösung.
Die faszinierenden Möglichkeiten des Werk­­stoffs Carbon begeistern uns und spornen
uns an, gemeinsam mit unseren Kunden die
optimale Lösung zu entwickeln.
Mit unserem umfassenden Materialport­­­­folio
und wertvollen Spezialwissen fertigen wir
maßgeschneiderte Produkte – selbst für
anspruchsvollste Anwendungen.
Konstant hohe Qualität, weltweite Präsenz,
Innovationskraft und langjährige Erfahrung
unserer Mitarbeiter machen uns zum
zuverlässigen Partner unserer Kunden.
Wie immer Ihre Herausforderung aussieht –
gemeinsam mit Ihnen finden wir die
beste Lösung.
sgl group – The Carbon Company
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SGL Group –
The Carbon Company.
Ein weltweit führender
Hersteller von Produkten
aus Carbon.
̤̤ Einzigartiges Produktportfolio
̤̤ Innovative Technologien und Lösungen
̤̤ Produktionsstandorte nahe den Absatzmärkten
̤̤ Technology & Innovation Center in Deutschland
mit internationalen Netzwerken
b Bearbeitung eines SIGRAFINE Mäanderheizers
bei SGL Group
Wir verfügen über ein breites Rohstoffverständnis,
Mit dieser breiten Basis bieten wir unseren ­Kunden
ausgereifte Herstellungsprozesse und langjähriges
beste Lösungen. Daher unser Claim: Broad Base.
Anwendungs- und Engineering-Know-how.
Best Solutions. Er wird gestützt durch SGL
Unser Portfolio an Kohlenstoff-, Graphit- und
Excellence, unsere Unternehmensphilosophie der
­Carbonfaserprodukten ist umfassend und unsere
kontinuierlichen Verbesserung.
integrierte Wertschöpfungskette reicht von
Carbonfasern bis hin zu Verbundwerkstoffen.
Mit einem flächendeckenden Vertriebsnetz und
modernen ­Produktionsstandorten in Europa,
Nordamerika und Asien sind wir weltweit nah
bei unseren Kunden.
+ Mehr Informationen unter
www.sglgroup.com
sglgroup
sglgroup
Kontakt
EUROPA/NAHER OSTEN/AFRIKA
SGL CARBON GmbH
Drachenburgstraße 1
53170 Bonn/Germany
[email protected]
AmeriKa
SGL CARBON LLC
900 Theresia Street
PE 15857 St. Marys/USA
[email protected]
asien/paZifiK
SGL CARBON Far East Ltd.
12 Fl, Shanghai Oriental Plaza,
31 Wujiang Road
Shanghai 200041/PR China
[email protected]
® eingetragene Marken der SGL CARBON SE
07 2015/0 2NÄ Printed in Germany
Die Angaben in dieser Druckschrift entsprechen dem heutigen Stand unserer Kenntnisse und sollen über
unsere Produkte und deren Anwendungsmöglichkeiten informieren. Sie haben somit nicht die Bedeutung,
bestimmte Eigenschaften für einen konkreten Einsatzzweck zuzusichern. Etwaige bestehende gewerbliche
Schutzrechte sind zu berücksichtigen. Eine einwandfreie Qualität gewährleisten wir im Rahmen unserer
„Allgemeinen Verkaufsbedingungen“.
Graphite Materials & Systems
SGL CARBON GmbH
Söhnleinstraße 8 | 65201 Wiesbaden/Germany
www.sglgroup.com/gms